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【文/观察者网专栏作者 白山头】
最近网上有很多关于中国工信部发布的光刻机技术讨论的分析文章,大致认为工信部发布的这款光刻机相当于阿斯麦15至20年前的产品,主要应用于55至65纳米的工艺。这与大家所理解的能够生产8纳米或7纳米的先进工艺有较大差距。
因此,许多人看完这些技术分析后,觉得我们的进步不够快。然而,实际上大家看错了重点。
这款光刻机属于公认的第四代光刻机,也就是DUV光刻机,仅次于最先进的EUV光刻机。虽然在精度上与更为先进的光刻机有差距,但它属于同一代,并不存在代差,具备很强的迭代升级空间。
也就是说,这款65纳米的光刻机与能够制造7纳米工艺的光刻机之间并没有代差。所需要做的就是不断迭代升级,包括镜头、光刻胶、光源、套刻精度等各方面。
当然,要达到能够制造出7纳米工艺的水平,需要大量的努力和投入。
不过纠结于光刻机的细节参数其实是本末倒置。我们需要理解的是,为什么工信部会在这个时候发布这样两款算不上先进的光刻机。
首先,对这两款光刻机进行推广,意味着它已经经过了工程验证和优质客户的优先采购,已经完全满足了这些客户的需求。光刻机的产量足以供给更多客户,这才具备推广的意义。如果产量不足,供不应求,那就没有推广的必要。这是很浅显的道理。
此外,还有对阿斯麦及荷兰政府的施压。阿斯麦曾放话,不再为中国企业售出的光刻机提供售后服务,并且收紧了光刻机的销售种类。大家可能不知道,65纳米以上的光刻机销售额占阿斯麦中国总销售额的40%,而中国市场又占据了阿斯麦总销售额的50%。也就是说,如果这款65纳米光刻机实现全部国产替代,阿斯麦将损失20%的销售额,这对公司来说是一个重大打击。
值得注意的是,65纳米光刻机并非我们目前已应用的最先进的国产光刻机。这里说的是“已应用的”,而不是“正在研发中的”。相信EUV光刻机的研发早已在进行中。
至于工信部为什么不推广最新国产先进光刻机,其实也不难理解。国内目前的需求就足以消化掉国产先进光刻机的产能。也就是说,这款先进光刻机仍然处于供不应求的状态,当然优先供给自己使用。当一个产品供不应求时,也就没有必要进行推广。按照中国人一贯低调的做事风格,没有必要官宣的时候,也无需官宣。而且通常不会把最先进的技术拿出来。
展望未来,当整个行业都在快速迭代、奋起直追时,如果按照历史规律判断需要多少年能赶上欧美,显然是不切实际的。个人判断,不出五年,先进的国产DUV光刻机将会大规模应用;而不出十年,包括最先进的EUV光刻机都有可能实现大规模量产。
当国产半导体供应链完整形成后,可能会出现国产供应链与欧美供应链的竞争格局。由于国产供应链更短、更紧凑、效率更高,欧美的半导体供应链或将逐渐衰退。包括台积电和阿斯麦这些如今在行业内呼风唤雨的公司,也许不久后会逐渐退出历史舞台。